继江丰电子后，又一家国产溅射靶材企业福建阿石创新材料股份有限公司（以下简称“阿石创”）今日正式登陆A股深交所创业板。超大规模集成电路和显示面板、太阳能电池等电子材料被美、日跨国公司垄断的局面的正在得到改善。



阿石创（图片来源于阿石创官网）


招股说明书显示，阿石创专业从事各种 PVD 镀膜材料研发、生产和销售，主导产品为溅射靶材和蒸镀材料两个系列产品，主要应用于光学光电子产业，用以制备各种薄膜材料。产品已在平板显示、光学元器件、节能玻璃等领域得到广泛应用，并已研发出应用于太阳能电池、半导体等领域的多款产品，是国内 PVD 镀膜材料行业产品品种较为齐全、应用领域较为广泛、工艺技术较为全面的综合型 PVD 镀膜材料生产商。


PVD 镀膜材料主要用以制备各种具有特定功能的薄膜材料，应用领域包括平板显示、半导体、太阳能电池、光磁记录媒体、光学元器件、节能玻璃、LED、 工具改性、高档装饰用品等。


上市募资扩产平板显示溅射靶材


薄膜材料制备技术主要包括物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。PVD 技术是制备薄膜材料的主要技术之一，指在真空条件下采用物理方法， 将某种物质表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或 等离子体）过程，在基板材料表面沉积具有某种特殊功能的薄膜材料的技术。在 PVD 技术下，用于制备薄膜材料的物质，统称为 PVD 镀膜材料。经过多年发展， PVD 技术已成为目前主流镀膜方法，主要包括溅射镀膜和真空蒸发镀膜。


溅射镀膜是指利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速 度的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面 的原子离开固体并沉积在基板材料表面的技术。被轰击的固体是用溅射法沉积薄 膜材料的原材料，称为溅射靶材。


溅射镀膜基本原理



溅射靶材的重要性可见一斑。


2016年12月，工信部、发改委、财政部、科技部联合发布《新材料产业 发展指南》，部分新一代信息技术产业用材料被列入需突破的重点应用领域急需 的新材料，并要求加强大尺寸硅材料、大尺寸碳化硅单晶、高纯金属及合金溅射 靶材生产技术研发，加快高纯特种电子气体研发及产业化，解决极大规模集成电路材料制约。


2017年6月，工信部发布《重点新材料首批次应用示范指导目录(2017年版)》，提出了平板显示用ITO靶材、平板显示用高纯钼靶材等重点新材料的应用领域。


溅射靶材生产工艺流程



招股说明书显示，阿石创溅射靶材可分为金属/非金属单质靶材、合金靶材、化合物靶材等。





招股说明书显示，目前阿石创与京东方、群创光电、蓝思科技、伯恩光学、爱普生、水晶光电等多家知名企业建立了良好的合作关系。


招股说明书显示，阿石创此次公开发行新股 1960万股，预计募集资金总额19541.20万元。募集资金将用于溅射靶材的产能提升、研发中心建设以及补充流动资金。


阿石创募集资金投向



招股说明书显示， 2015 年、2016 年和2017 年 1-6 月，阿石创主营业务收入分别为12438.96 万元、17462.24 万元和11133.83 万元，归属于母公司股东的净利润分别为 2634.05 万元、3602.55 万元和2187.11 万元。


逐鹿溅射靶材市场


招股说明书显示，溅射镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制，可在大面积基板材料上获得厚度均 匀的薄膜，所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点， 已成为制备薄膜材料的主要技术之一，各种类型的溅射薄膜材料已得到广泛的应 用，因此，对溅射靶材这一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，溅射靶材亦已成为目前市场应用量最大的 PVD 镀膜材料。


招股说明书显示，根据中国电子材料行业协会数据，2016年全球高纯溅射靶材市场规模约为 113.6 亿美元，其中平板显示（含触控屏）用靶材为 38.1 亿美元、半导体用靶材 11.9 亿美元、太阳能电池用靶材 23.4 亿美元、记录媒体靶材 33.5 亿美元。到2019 年，全球高纯溅射靶材市场规模将超过 163 亿美元，年复合增长率达 13%。





招股说明书显示，长期以来全球 PVD 镀膜材料研制和生产主要集中于美国、日本及德国等国家的少数公司，产业集中度较高。经过几十年的技术积淀，这些国外厂商凭借其雄厚的技术力量、精细的生产控制和过硬的产品质量居于全球高端 PVD 镀膜材料市场的主导地位。受到发展历史和技术限制的影响，PVD 镀膜材料行业在我国起步较晚，目前仍属于一个较新的行业。与国际知名企业生产的 PVD 镀膜材料相比，我国 PVD 镀膜材料研发生产技术总体上还存在一定差距，市场影响力相对有限，尤其在平板显示、半导体、太阳能电池等领域，全球高端 PVD 镀膜材料市场依然以美国、 日本及德国等国家的 PVD 镀膜材料生产厂商为主导。


据招股说明书显示，在全球范围内，具有规模化生产能力的 PVD 镀膜材料生产企业数量相对较少，霍尼韦尔、JX 金属、东曹、普莱克斯、三井矿业、住友化学、爱发科、世 科、贺利氏、攀时、优美科、佳能、默克等跨国公司居于全球 PVD 镀膜材料行业的强势地位。其中优美科、默克、佳能等为代表的国外厂商占据光学元器件用 PVD 镀膜材料市场的有利地位。平板显示行业用 PVD 镀膜材料以攀时、世泰科、贺利氏、爱发科、住友化学、JX 金属等为代表的跨国集团占据主导地位。


PVD 镀膜材料主要跨国公司情况

国别	企业名称	主要产品	溅射靶材2016年营收（市占率）
德国	世泰科	钽粉、钨粉、钽质溅射靶材	全球占有率排名前列
德国	贺利氏	高纯石英和溅射靶材、蒸发材料
比利时	优美科	ITO靶材
美国	普莱克斯	电子及半导体行业溅射靶材	5.96亿美元
美国	霍尼韦尔	钛铝靶、钛靶、铝靶、钽靶、铜靶	33.27亿美元
日本	住友化学	溅射靶材	4091亿日元
日本	东曹	半导体、太阳能、平板显示器、磁记录媒体溅射靶材
日本	JX 金属	溅射靶材
日本	爱发科	溅射靶材、ITO靶材	320亿日元
日本	三井矿业	PVD 镀膜材料	1440亿日元
奥地利	攀时	铝、钛、锆、铬、陶瓷溅射靶材
日本	佳能	平板显示溅射靶材
德国	默克

近几年我国 PVD 镀膜材料生产企业在技术和市场方面都取得了长足的进步，正逐步改变高端 PVD 镀膜材料长期依赖进口的不利局面。


据新材料在线®了解，目前国内包括阿石创、江丰电子、四丰电子（隆华节能旗下子公司）、东方钽业（000962.SZ）、有研忆金（有研新材旗下子公司）、安泰科技（000969.SZ）在内的多家上市公司成功切入高纯溅射靶材领域。